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真空氣氛爐的基本原理
日期：2026-03-17 12:17
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摘要：
真空氣氛爐，等物體在通入一定氣體的爐膛內進行真空燒結的方法。
不同的材料選擇適宜的氣氛燒結，有助于燒結過程，提高制品致密化程度、獲得良好的性能的制品。真空氣氛爐常用的有真空、氫、氧、氮和惰性氣體（如氬）等各種氣氛。例如透明氧化鋁陶瓷可用氫氣氛燒結，透明鐵電陶瓷宜用氧氣氛燒結，氮化物陶瓷如氮化鋁等宜用氮氣氛燒結。有時為保護燒結調協也須在保護氣氛中操作。如鉬絲爐宜通氫，鎢絲爐宜在真空條件下工作。
真空氣氛爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術，真空熱處理所處的真空環境指的是低于一個大氣壓的氣氛環境，包括低真空、中等真空、高真空和超高真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態下進行的，真空熱處理可以實現幾乎所有的常規熱處理所能涉及的熱處理工藝，但熱處理質量大大提高。與常規熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。
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