- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
技術(shù)參數(shù)：
產(chǎn)品名稱(chēng)
微型電弧熔煉爐
產(chǎn)品型號(hào)
CY-DHLΦ168-QG-Φ4-4
主要特點(diǎn)
1.設(shè)計(jì)熔煉樣品量 ≦ 10 g，溫度可達(dá)3000℃
2.采用透明石英腔體（帶有防護(hù)罩），可360°觀測(cè)樣品熔煉情況
3.水冷銅坩堝
4.熔煉槍可調(diào)節(jié)熔煉槍角度
5.真空接口用柔性波紋管連接可保證密封性。
真 空 計(jì)
設(shè)備上安裝有一機(jī)械壓力表，用于測(cè)量腔體內(nèi)氣壓
可選購(gòu)數(shù)顯防腐真空計(jì)
電弧電源
輸入電壓: 380VAC , 三相
*大輸入電流: 10A. (需要一40A的空氣開(kāi)關(guān))
輸出電壓/電流:
22.6 V / 315A（直流）
采用按鈕開(kāi)關(guān)控制功率輸出
鎢 電 極
配有一直徑為4mm的鎢電極，槍頭上帶有水冷
電極槍可角度調(diào)節(jié)，用于熔煉多個(gè)樣品
可熔煉樣品量< 10 g，溫度達(dá)到3000℃
坩 堝
配有水冷銅坩堝 4個(gè)工位，每個(gè)工位直Φ25mm×7mm（圖1）
可按客戶(hù)要求定制各種尺寸的銅坩堝
腔 體
采用石英腔體，尺寸為Φ168×136mmH
爐體尺寸
500 mm L × 450 mm W × 720 mm H
可選配件
1.真空泵（可選）
可選購(gòu)各種真空泵
真空度：10^-2 torr（采用機(jī)械泵）
10^-5
torr （采用分子泵系統(tǒng)）
2.水冷機(jī) （可選）
設(shè)備運(yùn)行時(shí)需要通入冷卻水，對(duì)電弧槍和銅坩堝進(jìn)行冷卻。可在本公司選購(gòu)循環(huán)水冷機(jī)KJ-5000（水管規(guī)格為12mm 外徑 x 8mm 內(nèi)徑）
